Gráficos de control con muestreo simple y doble para la proporción de ítems no conformes en procesos de alta calidad
Date
2013Author
Joekes, Silvia
Smrekar, Marcelo
Pimentel Barbosa, Emanuel
Metadata
Show full item recordAbstract
Actualmente hay situaciones en la producción industrial en la que los procesos, especialmente debido a los avances tecnológicos, han alcanzado muy altos estándares de calidad. Estosprocesos se conocen como procesos de alta calidady se caracterizan por tener unafracción de productos no conformesgeneralmente muy pequeña y tamaños de muestra no suficientemente grandes. Cuando esto sucede, los gráficos de control convencionales tienen serios inconvenientes para detectar disminuciones en los valores de pproduciendo un exceso de falsas alarmas. Basado en esta dificultad, los autores desarrollaron un gráfico p mejorado que mostró un beneficio considerable sobre el gráfico phabitual para atributos. Sin embargo, el gráfico pmejorado fracasa en la detección de incrementos pequeños en los parámetros delproceso. En esta situación, una alternativa la constituyen los gráficos de control con muestreo doble (MD) que le dan al proceso una segunda oportunidad antes de tomar una decisión. En este trabajo se muestran los beneficios del gráfico pmejorado con muestreo doble evaluados en términos de eficacia estadística (longitud media de corrida, ARL) y se lo compara con el mismo gráfico con muestreo simple. Además, se presentan tablas para la elección adecuada del plan de muestreo doble.El trabajo incluye una aplicación con datos reales.